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MVS 1000
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MVS 1000
描述
MVS 1000 火花發射光譜儀可以對所有常見金屬材料進行多功能、靈活和快速的材料分析。MVS 1000 以極具吸引力的成本使用最現代的檢測器技術。
分析能力包括短波元素的精確分析，如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和鋁中的磷。
主要特征
完整而靈活地覆蓋所有常見的分析任務
簡單的擴展選項
最新、專門開發的探測器技術
在檢出限、精密度、穩定性方面表現良好
堅固的結構，適用于惡劣環境
最廣泛的多矩陣應用
緊湊型光譜儀
技術參數
Paschen-Runge 設置中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
光學和讀出系統溫度穩定在 35 °C ± 0.1 °C，以獲得最佳的長期穩定性
計算機控制的自動分析
針對波長范圍優化的傳感器線
沒有傳感器線路涂層的高紫外線靈敏度
輕金屬真空室
免維護旋片泵
真空泵集成在外殼中
防止油回火和油擴散
采用 Stromtor 技術的門控數字源 (GDS)
免維護
射頻高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分參數可以單獨參數化
射頻和放電特性可自由參數化
點火電壓 20kV
230V；50/60赫茲；1.5kVA
待機模式下 200 W
GS 1000-II
描述
GS 1000-II 是 OBLF 系列中最小的成員，是適用于所有標準應用的單矩陣火花發射光譜儀。由于其緊湊堅固的結構以及簡單的操作，它非常適用于鑄造廠等生產環境，
也適用于進貨和材料控制。為了保證不受光譜儀周圍外部條件的影響，檢測器（光電倍增管）和集成系統安裝在溫度穩定的真空光學器件中。分析能力涵蓋短波元素的精確分析，如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和氮以及鋁中的磷。
主要特征
緊湊型光譜儀
GDS III 建議
真空光學
自清潔火花架
可選配“mini-GISS”
可選雙電極系統
技術參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長范圍 140-770 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C，具有出色的長期穩定性
自動計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據各自波長選擇 PMT 類型
抗震性
帶集成多火花系統的門控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點火電壓 20kV
寬 60 厘米
身高 110 厘米
深度 108 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V；50/60赫茲；1,5 kVA
待機模式下 200 W
環境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
OBLF VeOS
描述
OBLF 的 VeOS 火花發射光譜儀采用基于為發射光譜專門開發的半導體探測器的尖端探測器技術，能夠對所有常見金屬材料進行多功能、靈活和快速的分析。分析光譜還包括對短波長元素（如氮或低碳）的精確分析。
主要特征
完整而靈活地包含所有分析任務
易于擴展的功能
最新、專門開發的探測器技術
在檢出限、精密度、穩定性方面表現出色
用于重型環境的堅固設計
最全面的多矩陣應用選項，對分析元素的選擇沒有任何限制
準確檢測 N 和痕量碳 (ULC)
技術參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長范圍 130-700 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C，具有出色的長期穩定性
冷卻光學元件和讀出系統
自動計算機控制的輪廓
每個波長區域的優化檢測器線
沒有傳感器涂層的高紫外線靈敏度
抗震性
帶集成多火花系統的門控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點火電壓 20kV
寬 74 厘米
身高 134 厘米
深度 115 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V；50/60赫茲；1,5 kVA
待機模式下 300 W
環境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
常用型號
OBLF MVS 1000
OBLF GS 1000-II
OBLF VeOS
OBLF QSN750-II
OBLF QSG750-II
OBLF 雙電極系統
